半导体清洗专用臭氧发生器

在半导体晶片的制造过程中，如果遭到尘埃、金属等污染，很容易造成晶片内电路功能的损坏，形成短路或断路，半导体晶片的清洗是晶片的制造过程中重复最多的工序，清洗效果的好坏直接影响到芯片的电路特性和成品质量。清洗液和各种化学品使用不当会造成环境的严重污染，臭氧发生器在半导体清洗中具有广泛应用，主要体现在以下几个方面：

• 去除有机物：臭氧具有强氧化性，能将晶圆表面的光刻胶残留、有机物等氧化分解为二氧化碳和水，从而有效去除。

• 去除金属杂质：臭氧可以与一些金属杂质发生氧化反应，使其形成易于去除的氧化物。在HCl中应用臭氧时，可在低温下有效去除硅表面的金属杂质，且表面粗糙度低、反应时间短。

• 去除颗粒污染物：通常会用稀释的氢氟酸（DHF）蚀刻颗粒下的氧化物，避免颗粒沉积，以去除二氧化硅上的颗粒。臭氧作为氧化剂可以产生一层可以被HF蚀刻的新层，从而帮助去除颗粒。如臭氧水和稀释氟化氢的单晶片旋转清洗工艺，可高效去除各种颗粒污染物。

• 消毒：在半导体领域，臭氧被用于消毒水净化系统，防止晶圆受到微生物污染。

汇威环保是专业的臭氧设备制造厂家，臭氧专用系统为自主研发，利用了公司多项发明专利。与很多半导体企业（如中科院微电子所等）有多年的合作经验，经过了市场的验证，获得了客户的信赖。汇威臭氧发生器能获得众多半导体企业的青睐，主要是汇威的臭氧发生器有以下特点：


1、浓度高；半导体行业对臭氧浓度要求很高，臭氧水的氧化性随臭氧浓度的增加而增加，低浓度的臭氧浓度不能达到清洗金属及化合物的作用，汇威臭氧发生器国际一流的采用双微间隙设计，臭氧产出浓度150mg/L,也可根据客户需要设置至180-200mg/l，远远超过业内水平。

2、精确度高；半导体行业清洗对臭氧的产出精度要求很高，汇威臭氧发生器电源设计采用自主研发的高频逆变电源，可实现无极调整，调整的精确度1%。

3、一致性、稳定性；半导体行业的清洗要求臭氧发生器设备输出是稳定的一致的，汇威臭氧发生器电源系统可自动调整频率谐振点，实现臭氧系统的最优化稳定的输出，保证了臭氧产出的连续稳定。